1200℃大口径管式气氛炉
CNT生产的PECVD(等离子增强化学气相淀积)设备是一种用于在基片要用途:CNT管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域
坩埚炉SG2-1.5-10、SG2-3-10、SG2-5-10、SG2-7.5-10
坩埚炉SG2-1.5-10、SG2-3-10、SG2-5-10、SG2-7.5-10
TPR TPD 程序升温反应装置
DL-1程序升温反应装置,是由大连森杰科技联合大连理工大学研制开发的一种经济型多功能催化剂表征系统,具有三种流动分析方法:程序升温还原(TPR)、程序升温脱附(TPD)和脉冲滴定(化学吸附),也可用于催化样品制备反应。
标准型马弗炉
种型号的内容积选择和程序控制功能内置 可以进行2套8步或1套16步程序编成运行。 搭载操作性能优异的温度控制器。 数码温度/时间设定和显示。 温度过升防
